设备名称：多腔室物理气相沉积系统Polaris G620

设备型号：Polaris

厂 家：北方华创

设备编号：21012470

设备分类：薄膜

设备功能简介：

主要在8英寸样品上生长薄膜；可进行烘烤，可预清洗不同厚度的SiO₂，可生长不同厚度的TiN/HfO₂/TaO_x，或者生长金属Ir/Al。

设备性能指标：

1、Degas加热均匀性150+/-10℃；

2、PCII刻蚀SiO₂约150Å/min，片内与片间均匀性在5%以内；

3、TiN片内与片间电阻均匀性在5%以内；Al片内与片间电阻均匀性在5%以内。

设备物理位置：

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法：

通过清华大学仪器共享服务平台在线预约使用。

工程师联系方式：

魏治乾：19801221361，zhiqianwei@tsinghua.edu.cn

备注：

8英寸晶圆片，符合污染管理和安全要求。

仅接收委托加工。