设备名称：BENEQ原子层沉积系统

设备型号：TFS200-106

厂 家：BENEQ

设备编号：09016504

设备分类：薄膜

设备功能简介：

可通过原子层热沉积的方式进行Al₂O₃、HfO₂、ZrO₂、HZO等高k材料、阻变材料及原位电极材料的制备。

设备性能指标：

1、样品尺寸：8寸及8寸以下兼容

2、生长精度：0.1nm

3、反应温度：25℃～500℃

4、生长方式：热沉积

5、热源2个，冷源3个。

设备物理位置：

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法：

通过清华大学仪器共享服务平台在线预约使用。

工程师联系方式：

曹秉军：62784044-220，caobj@tsinghua.edu.cn

备注：

1、样品不能带有金、银、铜。

2、样品上不能有挥发性材料。

3、样品上不能有有机物。

4、样品需清洗干净才可以进入腔体。